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【技术资料】使用化学清洗药品时需要符合什么规则?沈阳水处理设备-沈阳软化水设备-沈阳RO膜清洗-沈阳纯水机

使用化学清洗药品时需要符合什么规则?沈阳水处理设备-沈阳软化水设备-沈阳RO膜清洗-沈阳纯水机

使用化学清洗药品时需要符合以下准则:

(1) 选用的专用化学药剂,首先要确保其已由化学供应商认定并符合用于海德能公司膜元件的要求。药剂供应商的指导和建议不应与海德能公司此技术手册中推荐的清洗参数和限定的化学药剂种类相冲突。

(2) 如果正在使用指定的化学药剂,要确认其已在此海德能公司技术手册中列出,并符合海德能公司的要求。

(3) 影响清洗效果的因素是多方面的,应该采用组合式方法完成清洗工作,包括适宜的清洗pH、温度及接触时间等参数,这将会有利于增强清洗效果。

(4) 在推荐的最佳温度下进行清洗,同时应尽可能减少化学药剂与膜元件的接触次数,以求达到最好的清洗效率和延长膜元件寿命的效果。

(5) 应该谨慎地控制清洗液的pH 值范围,可延长膜元件的使用寿命。保守的pH 范围是4-10,允许使用的最大pH 范围为2-12。

(6) 典型地、最有效的清洗方法是从低pH 至高pH 溶液进行清洗;对油污染膜元件的清洗不能从低pH值开始,因为油在低pH 时会固化。

(7) 当清洗多段反渗透装置时,最有效的清洗方法是分段清洗,这样可控制最佳清洗流速和清洗液浓度,避免后段的膜元件受到前段污染物的堵塞。

(8) 如果系统已发生生物污染,就要考虑在清洗之后加入一个杀菌剂化学清洗步骤。杀菌剂必须可在清洗后立即进行,也可在运行期间定期进行(如一星期一次)连续加入一定的剂量。必须确认所使用的杀菌剂与膜元件相容,不会带来任何对人的健康有害的风险,并能有效地控制生物活性,且成本低。

(9) 为安全起见,要确保在清洗时所有的软管和管路可承受清洗温度、压力和pH 条件下的操作;

(10) 为保证安全,溶解化学药品时,切记要慢慢地将化学药剂加入充足的水中并同时进行搅拌;

(11) 从安全方面考虑,不能将酸与苛性(腐蚀性)物质混合。在要使用下一种溶液之前,应从RO 系统

中彻底冲洗干净滞留的前一种化学清洗溶液。

 

海德能推荐的清洗药品

 重要提示:要从化学品供应商处力求得到化学药剂的性能参数、操作指南和安全注意事项,并且在处理和保存所有化学品时严格按照说明书要求执行。

溶液是按所用化学药品和水量的比例配制的。溶剂是RO 产品水或去离子水,无游离氯和硬度。清洗液进入膜元件之前,要求彻底混和均匀,并按照目标值调节pH、温度。常规的清洗方法基于用化学清洗溶液循环清洗1 小时和1 种任选的化学药剂浸泡一小时的操作而设定的。 

   

  表-6“清洗液pH 和水温极限的关系”表明了对特定膜元件的最大pH 和温度极限值,超出这一限制会造成不可恢复的膜元件损坏。海德能公司建议的最小清洗温度极限是21℃,因为在较高温度下清洗效力和清洗药剂的溶解性会有明显改善。

 

在清洗过程中,污染物会消耗清洗药品,pH 值会因此发生变化,同时药品的清洗效力会降低。化学清洗时需要随时监测pH 值的变化,及时调节pH 值。一般测定pH 值偏离设定pH 值0.5 以上时,需要再进行化学药品添加。

   清洗液介绍

溶液1

2.0%(W)柠檬酸(C6H8O7)的低pH(pH值为4)清洗液。对于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等),金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等),及无机胶体十分有效。注意:当用氢氧化铵(氨水)向上调节pH 值时,柠檬酸具有很好的螯合性。这时不能用氢氧化钠调pH 值。

溶液2

2.0(W)%STPP(三聚磷酸钠Na5P3O10)和0.8%(W)的Na-EDTA混合的高pH(pH值为10)洗液。它专用于去除硫酸钙垢和轻微至中等程度的天然有机污染物。STPP具有无机螯合剂和洗涤剂的功用。Na-EDTA是一个具有螯合性的有机螯合清洗剂,可有效去除二价和三价阳离子和金属离子。STPP和Na-EDTA均为粉末状。

溶液3

2.0(W)%STPP(三聚磷酸钠Na5P3O10)和0.25%(W)的Na-DDBS[十二烷基苯磺酸钠,C6H5(CH2)12-SO3Na]混合的pH值为10 的高pH洗液。该洗液用于去除较重度的天然有机物(NOM)污染。STPP具有无机螯合剂和洗涤剂的功用,Na-DDBS则作为阴离子洗涤剂。

溶液4

0.5%(W)盐酸低pH 清洗液(pH 为2.5),主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等),金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等),及无机胶体。这种清洗液比溶液1 要强烈些,因为盐酸(HCl)是强酸。盐酸的下述浓度值是有效的:(18°波美=27.9%,20°波美=31.4%,22°波美=36.0%)

溶液5

1.0%(W)亚硫酸氢钠(Na2S2O4)高pH清洗液(pH为11.5)。它用于去除金属氧化物和氢氧化物,且可一定程度的扩展至去除硫酸钙、硫酸钡和硫酸锶垢。亚硫酸氢钠是强还原剂,亚硫酸氢钠为粉末状。

溶液6

0.1%氢氧化钠和0.03%(W)SDS(十二烷基磺酸钠)高pH 混合液(pH 为11.5)。它用于去除天然有机污染物、无机/有机胶体混合污染物和微生物(菌素、藻类、霉菌、真菌)污染。SDS 是会产生一些泡沫的阴离子表面活性剂型的洗涤剂。

溶液7

0.1%(W)氢氧化钠高pH 清洗液(pH 为11.5)。用于去除聚合硅垢,这是一种较为强烈的碱性洗液。
化学清洗系统

(1) 化学清洗设备配置

因为在线清洗时,膜元件放在压力容器中进行清洗,运行装置以外,需要另外设置清洗装置。清洗设备一般包含清洗水箱、过滤器、循环泵、压力表、温度计、阀门、取样点、管线等。清洗水箱的容积要保证,连接软管、过滤器、管路和RO 压力容器内置换用水水量的要求。  

 

(2) 清洗用水体积计算

计算RO 膜元件、保安过滤器以及管路的体积,概算所需清洗液的体积,保证清洗液量。
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