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半导体超纯水设备工艺流程

  半导体超纯水设备工艺流程

 

半导体超纯水设备工艺流程

 

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

 

  半导体超纯水设备顾名思义主要用于半导体加工和生产,以上是半导体超纯水设备的几种制水工艺,希望对您有所帮助。莱特莱德沈阳水处理设备公司拥有一批经过专业系统学习和实践的技术人员,为客户提供整体工程的设计、生产、安装、调试、售后服务等一系列工作,可为用户提供有关详尽的技术资料及工程实例,并可根据客户需求提供建设超纯水设备生产的解决方案。

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