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芯片清洗用超纯水设备工艺流程

  芯片清洗用超纯水设备工艺流程

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

 

超纯水设备

 

  以上是芯片清洗用超纯水设备工艺流程简单介绍。莱特莱德沈阳水处理设备公司是一家专业从事环保水处理产品研发,设计,制造,安装,销售,服务为一体的高新技术企业。公司拥有先进的制造设备,优良的技术人才,专业的操作人员,我们本着“诚信为本,质量第一”的原则服务于用户“精于设计,降低成本”让利于用户。

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