集成电路纯水设备最新技术解析

　　电子行业做为现在高新技术产业的主流，这些年来发展的极为迅速。其中集成电路产业更是提高快速，在其生产过程中需要用到大量的水。只有运用集成电路纯水设备，它的产水才能完全符合标准。

 集成电路纯净水设备

　　集成电路纯水设备新工艺

　　一个产品在生产中需要经过很多工序，集成电路纯水设备也是如此。在这个过程中会运用到新的工艺，如双级反渗透工艺和RO+EDI工艺。两种工艺在预处理时都要经过四级系统，才能让原水的水质初步净化。后来的主机系统一个以反渗透装置，另一种是RO与EDI技术的相结合。两种工艺最后都要经过紫外线杀菌器，出水水质能达到国内外的各项标准。

　　集成电路纯水设备RO与EDI技术

　　从述的介绍可以知道制取纯净度很高的水质，可以采用双级反渗透系统或者是EDI系统。如果是采用EDI模快去除纯水中残余的微量带电，高交换容量充分再生无化学析出的核子级树脂。反渗透是一种膜分离技术也是当今最为先进的，可以达到分离、浓缩等目的。

　　纯水设备的应用范围

　　我们现在很多企业的生产中需要用到纯水，也就是说向集成电路纯水设备。而且还能应用于光电产品生产和加工，液晶显示屏和离子显示屏的清洗。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。

　　集成电路纯水设备在技术上的要求很高，最好不要采用传统的耗能的方法。我公司的设备主要采用就是RO加EDI纯水制取方法，不需酸碱化学再生当然也不会有废酸废碱液排放。过程中为自动控制产水水质稳定，两种方法的结合可以形成完善的纯水生产能力。