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集成电路纯水设备最新技术解析

  电子行业做为现在高新技术产业的主流,这些年来发展的极为迅速。其中集成电路产业更是提高快速,在其生产过程中需要用到大量的水。只有运用集成电路纯水设备,它的产水才能完全符合标准。

 

 

 集成电路纯净水设备

  集成电路纯水设备新工艺

  一个产品在生产中需要经过很多工序,集成电路纯水设备也是如此。在这个过程中会运用到新的工艺,如双级反渗透工艺和RO+EDI工艺。两种工艺在预处理时都要经过四级系统,才能让原水的水质初步净化。后来的主机系统一个以反渗透装置,另一种是RO与EDI技术的相结合。两种工艺最后都要经过紫外线杀菌器,出水水质能达到国内外的各项标准。

  集成电路纯水设备RO与EDI技术

  从述的介绍可以知道制取纯净度很高的水质,可以采用双级反渗透系统或者是EDI系统。如果是采用EDI模快去除纯水中残余的微量带电,高交换容量充分再生无化学析出的核子级树脂。反渗透是一种膜分离技术也是当今最为先进的,可以达到分离、浓缩等目的。

  纯水设备的应用范围

  我们现在很多企业的生产中需要用到纯水,也就是说向集成电路纯水设备。而且还能应用于光电产品生产和加工,液晶显示屏和离子显示屏的清洗。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。

  集成电路纯水设备在技术上的要求很高,最好不要采用传统的耗能的方法。我公司的设备主要采用就是RO加EDI纯水制取方法,不需酸碱化学再生当然也不会有废酸废碱液排放。过程中为自动控制产水水质稳定,两种方法的结合可以形成完善的纯水生产能力。

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