莱特莱德·沈阳水处理设备公司欢迎您!
流体过滤与分离技术解决方案服务商!

首页 > 工程案例

——产品推荐——

欢迎致电获取解决方案
4000-717-999
024-31519871

四川省某半导体企业超纯水项目介绍

  半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水,随着半导体工业的不断发展,对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles要求也越来越严格。由于半导体用超纯水对多项指标的高要求,所以在半导体行业,超纯水不同于其他行业对水的要求,半导体行业对超纯水有严格的水质要求。

  在半导体生产工艺中,硼是P型杂质,过量会使n型硅反型,对电子、空穴浓度有影响。因此在超纯水行业中,要充分考虑硼的脱除。《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。如果硼离子含量能够达到更低的指标,势必会提升半导体的性能。

  莱特莱德超纯水设备能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,设备结构设计相对靠紧,所以其占地较小,可以为企业节省很多空间,工业用超纯水设备在出厂前均需进行装置调试,所以设备故障几率较小,日常保养、维修等操作都十分简单。目前,超纯水设备已在诸多项目在运行,应用优势显著。

  莱特莱德超纯水设备应用于某半导体企业

  一、项目名称:四川省某半导体企业超纯水项目

  二、项目地址:四川省

  三、执行标准

  《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)

  《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)

  四、项目工艺:

  Huncotte系统选用核子级树脂,通过独有的靶向离子交换树脂,能够有效控制系统出水的硼离子含量,硼离子含量通过IPC-MS检测,硼离子出水≤0.005μg/L远远小于ASTM-D5127-13标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。相信更优质的超纯水,可以给半导体带来更好的性能,给半导体企业带来更强的优势。

  莱特莱德长年致力于水处理设备的开发、研制和生产,积累了丰富的水处理技术制造经验,拥有专业的加工设备,齐全的检测手段,完善的质保体系以及合理的售后服务。

技术资料

莱特莱德工程案例

返回顶部